目次

はじめに

調査分析結果

1．パテントマップ編

A．直近2年間に新規出現した出願人、分類による動向分析（2013年10月?2015年9月）

A-1．出願人別公開件数ランキング（上位20）
A-2．FIサブグループ分類別公開件数ランキング（上位20）
A-3．Fターム分類別公開件数ランキング（上位20）
A-4．FIサブグループ分類別公開件数の推移（上位20、月次）
A-5．Fターム分類別公開件数の推移（上位20、月次）
A-6．FIサブグループ分類別出現・消失状況（公開件数上位20）
A-7．Fターム分類別出現・消失状況（公開件数上位20）
A-8．出願人別公開件数伸長率
A-9．FIサブグループ分類別公開件数伸長率（公開件数上位50）
A-10．Fターム分類別公開件数伸長率（公開件数上位50）
A-11．出願人（上位20）とFIサブグループ分類（上位20）の相関
A-12．出願人（上位20）とFターム分類（上位20）の相関
【資料1】2013年10月?2015年9月に新規出現したFIサブグループ分類リスト（上位100）
【資料2】2013年10月?2015年9月に新規出現したFターム分類リスト（上位100）

B．全般分析

B-1．全体の技術開発ライフサイクル
B-2．公開件数の推移（年次と累計）
B-3．出願人数の推移（年次と累計）
B-4．新規発明者数の推移（年次と累計）
B-5．新規FIメイングループ分類数の推移（年次と累計）
B-6．新規FIサブグループ分類数の推移（年次と累計）
B-7．新規Fターム分類数の推移（年次と累計）
B-8．出願人別公開件数ランキング（上位100）
B-9．発明者別公開件数ランキング（上位50）
B-10．FIメイングループ分類別公開件数ランキング(上位50)
B-11．FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位100)
B-12．Fタームテーマコード分類別公開件数ランキング（上位50）
B-13．Fターム分類別公開件数ランキング（上位100）
B-14．1位Fタームテーマコード2H196の技術分類別件数（着目：2期間）
B-15．1位Fタームテーマコード2H196の技術分類別件数（着目：上位5社）
B-16．出願人別参入・撤退状況（最近40、公開件数5件以上）
B-17．FIメイングループ分類別出現・消失状況（最近40、公開件数5件以上）
B-18．FIサブグループ分類別出現・消失状況（最近40、公開件数5件以上）
B-19．Fターム分類別出現・消失状況（最近40、公開件数5件以上）
B-20．出願人別公開件数伸長率（件数差5件以上）
B-21．発明者別公開件数伸長率（上位50、件数差20件以上）
B-22．FIメイングループ分類別公開件数伸長率（上位50、件数差5件以上）
B-23．FIサブグループ分類別公開件数伸長率（上位50、件数差5件以上）
B-24．Fターム分類別公開件数伸長率（上位50、件数差10件以上）
B-25．FIメイングループ分類別発明者数伸長率（上位50、発明者数差10名以上）
B-26．FIサブグループ分類別発明者数伸長率（上位50、発明者数差10名以上）
B-27．Fターム分類別発明者数伸長率（上位50、発明者数差20名以上）

C．上位20出願人比較分析

C-1．公開件数比較（2005年?2009年 VS 2010年?2014年）
C-2．公開件数の推移（累計）
C-3．共同出願人数の推移（累計）
C-4．新規発明者数の推移（累計）
C-5．新規FIメイングループ分類数の推移（累計）
C-6．新規FIサブグループ分類数の推移（累計）
C-7．新規Fターム分類数の推移（累計）
C-8．新規キーワード数の推移（累計）
C-9．上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
C-10．上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
C-11．上位20Fターム分類との公開件数相関
C-12．Fタームテーマコード分類1位と2位における公開件数比較
C-13．公開件数占有率
C-14．審査・権利状況
C-15．公開件数の伸びと1位Fターム分類2H196AA25に関する構成率比較
C-16．発明者数＊Fターム分類数の比較

D．上位5社個別分析

D-1-1．【富士フイルム】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-1-2．【コニカミノルタ】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-1-3．【JSR】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-1-4．【東京応化工業】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-1-5．【東京エレクトロン】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-2-1．【富士フイルム】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
D-2-2．【コニカミノルタ】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
D-2-3．【JSR】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
D-2-4．【東京応化工業】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
D-2-5．【東京エレクトロン】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
D-3-1．【富士フイルム】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-3-2．【コニカミノルタ】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-3-3．【JSR】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-3-4．【東京応化工業】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-3-5．【東京エレクトロン】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-4-1．【富士フイルム】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-4-2．【コニカミノルタ】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-4-3．【JSR】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-4-4．【東京応化工業】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-4-5．【東京エレクトロン】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-5-1．【富士フイルム】FIサブグループ分類別出現・消失状況（最近40）
D-5-2．【コニカミノルタ】FIサブグループ分類別出現・消失状況（最近40）
D-5-3．【JSR】FIサブグループ分類別出現・消失状況（最近40）
D-5-4．【東京応化工業】FIサブグループ分類別出現・消失状況（最近40）
D-5-5．【東京エレクトロン】FIサブグループ分類別出現・消失状況（最近40）
D-6-1．【富士フイルム】キーワード別出現・消失状況（最近40、公開件数3件以上）
D-6-2．【コニカミノルタ】キーワード別出現・消失状況（最近40、公開件数3件以上）
D-6-3．【JSR】キーワード別出現・消失状況（最近40、公開件数3件以上）
D-6-4．【東京応化工業】キーワード別出現・消失状況（最近40、公開件数3件以上）
D-6-5．【東京エレクトロン】キーワード別出現・消失状況（最近40、公開件数3件以上）
D-7-1．【富士フイルム】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-7-2．【コニカミノルタ】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
D-7-3．【JSR】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-7-4．【東京応化工業】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
D-7-5．【東京エレクトロン】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
D-8-1．【富士フイルム】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
D-8-2．【コニカミノルタ】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
D-8-3．【JSR】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
D-8-4．【東京応化工業】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
D-8-5．【東京エレクトロン】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
D-9-1．【富士フイルム】共同出願人との連携
D-9-2．【コニカミノルタ】共同出願人との連携
D-9-3．【JSR】共同出願人との連携
D-9-4．【東京応化工業】共同出願人との連携
D-9-5．【東京エレクトロン】共同出願人との連携

E．上位4社比較分析

E-1．4社の上位20FIサブグループ分類別公開件数の推移（年次）
E-2．4社の富士フイルム上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
E-3．4社のコニカミノルタ上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
E-4．4社のJSR上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
E-5．4社の東京応化工業上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
E-6．4社の2H196AA（感光性樹脂・フォトレジストの処理＞目的、用途）のFターム分類別公開件数ランキング（上位10）
E-7．4社の2H196BA（感光性樹脂・フォトレジストの処理＞感光性材料）のFターム分類別公開件数ランキング（上位10）
E-8．4社のFIサブグループ分類別出現・消失状況（公開件数上位10）
E-9．4社のFターム分類別出現・消失状況（公開件数上位10）
E-10．富士フイルムの公開件数伸び変遷
E-11．コニカミノルタの公開件数伸び変遷
E-12．JSRの公開件数伸び変遷
E-13．東京応化工業の公開件数伸び変遷
E-14．4社とFターム分類（上位20）との公開件数相関
E-15．Fターム分類別公開件数グロスランキング(上位10）

F．上位20特許分類分析

F-1．FIメイングループ分類別公開件数比較（上位20）（2005年?2009年 VS 2010年?2014年）
F-2．FIサブグループ分類別公開件数比較（上位20）（2005年?2009年 VS 2010年?2014年）
F-3．Fターム分類別公開件数比較（上位20）（2005年?2009年 VS 2010年?2014年）
F-4．FIメイングループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
F-5．FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
F-6．Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
F-7．FIメイングループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
F-8．FIサブグループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
F-9．Fターム分類別出願人数の推移(上位20、年次)
F-10．FIメイングループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
F-11．FIサブグループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
F-12．Fターム分類別発明者数の推移(上位20、年次)
F-13．FIメイングループ分類別公開件数占有率（公開件数上位20）
F-14．FIサブグループ分類別公開件数占有率（公開件数上位20）
F-15．Fターム分類別公開件数占有率（公開件数上位20）

G．特定特許分類分析

G-1．特定特許分類分析（1）
　G-1-1．特定FIサブグループ分類の公開件数の推移（年次）
　G-1-2．特定FIサブグループ分類の上位20出願人別公開件数の推移（年次）
　G-1-3．特定Fターム分類の公開件数の推移（年次）
　G-1-4．特定Fターム分類の上位20出願人別公開件数の推移（年次）
　G-1-5．特定FIサブグループ分類の新規出願人数の推移（年次）
　G-1-6．特定Fターム分類の新規出願人数の推移（年次）
　G-1-7．特定FIサブグループ分類の新規発明者数の推移（累計）
　G-1-8．特定Fターム分類の新規発明者数の推移（累計）
　G-1-9．特定FIサブグループ分類H01L21/30の公開件数伸長率変遷
　G-1-10．特定FIサブグループ分類G03F7/004の公開件数伸長率変遷
　G-1-11．特定Fターム分類2H196AA25の公開件数伸長率変遷
　G-1-12．特定Fターム分類2H196GA08の公開件数伸長率変遷
　G-1-13．特定FIサブグループ分類H01L21/30の出願人別公開件数ランキング(上位50)
　G-1-14．特定FIサブグループ分類G03F7/004の出願人別公開件数ランキング(上位50)
　G-1-15．特定Fターム分類2H196AA25の出願人別公開件数ランキング(上位50)
　G-1-16．特定Fターム分類2H196GA08の出願人別公開件数ランキング(上位50)

G-2．特定特許分類分析（2）
　G-2-1．特定Fターム分類2H196AA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
　G-2-2．特定Fターム分類2H196BA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
　G-2-3．特定Fターム分類2H196EA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
　G-2-4．特定Fターム分類2H196GA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
　G-2-5．特定Fターム分類2H196HA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
　G-2-6．特定Fターム分類2H196AA関連の公開件数比較(上位10)
　G-2-7．特定Fターム分類2H196BA関連の公開件数比較（上位10）
　G-2-8．特定Fターム分類2H196EA関連の公開件数比較（上位10）
　G-2-9．特定Fターム分類2H196GA関連の公開件数比較（上位10）
　G-2-10．特定Fターム分類2H196HA関連の公開件数比較（上位10）
　G-2-11．特定Fターム分類2H196AA関連の公開件数の推移（上位10、年次）
　G-2-12．特定Fターム分類2H196BA関連の公開件数の推移（上位10、年次）
　G-2-13．特定Fターム分類2H196EA関連の公開件数の推移（上位10、年次）
　G-2-14．特定Fターム分類2H196GA関連の公開件数の推移（上位10、年次）
　G-2-15．特定Fターム分類2H196HA関連の公開件数の推移（上位10、年次）
　G-2-16．特定Fターム分類2H196AA関連(上位10) と特定Fターム分類2H196BA関連(上位10) との公開件数相関
　G-2-17．特定Fターム分類2H196AA関連(上位10) と特定Fターム分類2H196EA関連(上位10) との公開件数相関
　G-2-18．特定Fターム分類2H196AA関連(上位10) と特定Fターム分類2H196GA関連(上位10) との公開件数相関
　G-2-19．特定Fターム分類2H196AA関連(上位10) と特定Fターム分類2H196HA関連(上位10) との公開件数相関
　G-2-20．特定Fターム分類2H196AA関連(上位10) と上位20出願人との公開件数相関
　G-2-21．特定Fターム分類2H196BA関連(上位10) と上位20出願人との公開件数相関
　G-2-22．特定Fターム分類2H196EA関連(上位10) と上位20出願人との公開件数相関
　G-2-23．特定Fターム分類2H196GA関連(上位10) と上位20出願人との公開件数相関
　G-2-24．特定Fターム分類2H196HA関連(上位10) と上位20出願人との公開件数相関
　G-2-25．特定Fターム分類2H196AA関連の公開件数伸長率変遷
　G-2-26．特定Fターム分類2H196BA関連の公開件数伸長率変遷
　G-2-27．特定Fターム分類2H196EA関連の公開件数伸長率変遷
　G-2-28．特定Fターム分類2H196GA関連の公開件数伸長率変遷
　G-2-29．特定Fターム分類2H196HA関連の公開件数伸長率変遷

H．キーワード分析

H-1．キーワード別公開件数ランキング（上位100）
H-2．キーワード別出現・消失状況（最近80、公開件数5件以上）
H-3．キーワード別公開件数の伸長率（上位50、件数差30件以上）

I．弁理士（特許事務所）の動向分析

I-1．弁理士（特許事務所）別公開件数ランキング（上位40）
I-2．上位40弁理士（特許事務所）別公開件数の推移（年次）
I-3．上位40弁理士（特許事務所）と上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
I-4．上位40弁理士（特許事務所）と上位40出願人との公開件数相関

2．パテントチャート編

(1) 東レの時系列チャート分析
(2) 日立化成デュポンマイクロシステムズの時系列チャート分析
(3) 東レの1位と3位Fタームテーマコード分類と上位2発明者のマトリクスチャート分析
(4) 日立化成デュポンマイクロシステムズの上位2Fタームテーマコード分類と上位2発明者のマトリクスチャート分析
(5) 東レのFタームコード2H196の技術分類マトリクスチャート
(6) 飯原明宏など4名（東レ）の公報4件のサイテーションマップ

3．　総括コメント

＜参考資料＞
【資料3】出願人統合リスト
【資料4】上位20出願人の発明者リスト
【資料5】富士フイルムの最新40件公報の審査権利状況リスト
【資料6】パテントマップ・パテントチャートの種別と見方