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※ 2017年2月現在。変更の可能性があります

目次

序論　半導体微細パターニング技術とリソグラフィ　岡崎　信次
　1 はじめに
　2 微細化の指針とその効果
　3 光リソグラフィ技術の発展とその限界
　4 ポスト光リソグラフィ技術と今後の展開

第Ⅰ編　光リソグラフィ技術
第1章 露光装置
　　柴﨑　祐一
　1 光露光装置概要
　2 露光装置を構成する技術
　3 今後の光露光装置に求められるもの
第2章 エキシマレーザ光源
　　松永　隆，太田　毅
　1 はじめに
　2 光リソグラフィにおけるエキシマレーザ光源
　3 ArFエキシマレーザの基本技術
　4 最新技術動向
　5 最新多重露光プロセス対応ArFエキシマレーザ　GT64A
　6 おわりに
第3章 超解像技術、位相シフト技術と変形照明技術
　　渋谷　眞人
　1 はじめに
　2 投影露光装置光学系の基本的構成と結像
　3 変形照明技術（斜入射照明法）
　4 位相シフトマスク技術
第4章 マスク技術とSMO技術
第1節 フォトマスク技術
　　林　直也
　1 はじめに
　2 フォトマスクの成り立ち
　3 フォトマスクの構造
　4 フォトマスク製造工程
　5 フォトマスクの課題と今後
第2節 SMO (Source Mask Optimization)技術
　　斉藤　康子
　1 SMOとは
　2 ASMLのSMO技術
　3 フルチップへの適用
　4 まとめ

第Ⅱ編　ポスト光リソグラフィ技術
第1章 次世代リソグラフィ技術動向
　　石原　直
　1 次世代リソグラフィ技術とは
　2 EUVリソグラフィ技術
　3 電子線描画技術
　4 ナノインプリント技術
　5 DSA (Directed Self-Assembly) 技術
第2章 EUVリソグラフィ技術
第1節 EUV露光装置技術
　　宮崎　順二
　1 はじめに
　2 装置概要
　3 装置性能
　4 将来の高NA EUV露光システム
第2節 EUV干渉露光
　　渡邊　健夫
　1 はじめに
　2 EUV干渉露光
　3 まとめ
第3節 EUV光源技術
　　溝口　計，斎藤　隆志，山崎　卓
　1 はじめに
　2 EUVリソグラフィ
　3 高出力EUV光源の開発の経緯とコンセプト
　4 最近の高出力EUV光源開発の進展
　5 EUV光源パイロットシステムの開発
　6 おわりに
第4節 EUVブランクス作製技術
　　笑喜　勉
　1 はじめに
　2 ガラス基板材料
　3 サブストレート研磨プロセス
　4 多層膜
　5 吸収体・裏面膜
　6 まとめ
第5節 マスク技術
　　小寺　豊
　1 EUVマスクの構造
　2 EUVマスクの製造工程
　3 EUVマスクの遮光帯
　4 EUVマスクの欠陥
　5 EUVマスクの欠陥検査
　6 EUVマスクの欠陥保証
　7 EUVマスク用ペリクル
第3章 ナノインプリント技術
第1節 量産化に向けたナノインプリント技術
　　東木　達彦
　1 はじめに
　2 NAND フラッシュメモリの概要
　3 次世代リソグラフィの選択
　4 ナノインプリントのアライメント技術とオーバーレイ精度向上
　5 欠陥低減とナノディフェクトマネージメント
　6 おわりに
第2節 ナノインプリント装置技術
　　森本　修
　1 はじめに
　2 ナノインプリント装置開発の歴史
　3 半導体ナノインプリント装置の仕組み
　4 ナノインプリント装置の性能
　5 マスク複製装置
　6 ナノインプリント装置の今後
第3節 ナノインプリント・テンプレート技術
　　法元　盛久
　1 テンプレートとは
　2 マスターテンプレート技術
　3 レプリカテンプレート技術
　4 まとめ
第4節 ナノインプリントプロセス技術
　　河野　拓也
　1 はじめに
　2 NILの概要
　3 光ナノインプリントの基本性能
　4 光ナノインプリントを成功させるための周辺技術
　5 おわりに
第5節 ナノインプリント材料技術
　　中川　勝
　1 はじめに
　2 光硬化性液体
　3 その他の機能性材料
　4 シングルナノ成形に向けた光硬化性液体
第6節 ナノインプリントリソグラフィシミュレーション技術
　　小林　幸子
　1 はじめに
　2 樹脂流動シミュレーション
　3 UV硬化および離型挙動シミュレーション
　4 NILシミュレーションを利用した製造性考慮設計
第4章 電子線描画技術と装置開発
第1節 可変成形ビーム型電子線描画装置
　　山田　章夫
　1 はじめに
　2 電子線描画装置のカラム構成と図形転写機能
　3 電子線描画装置の描画例
　4 おわりに
第2節 マルチビーム型電子線描画装置
　　中山田　憲昭，山下　浩
　1 はじめに
　2 開発の目的
　3 描画方式の相違点
　4 主要開発項目
　5 スループット設計
　6 描画結果
　7 まとめ
第5章 誘導自己組織化(DSA)技術
第1節 DSA技術の概要
　　永原　誠司
　1 はじめに
　2 DSA技術に活用されるポリマーの自己組織化
　3 DSAプロセスの基本ステップ
　4 DSA関連材料
　5 DSAのプロセスシミュレーション
　6 DSA技術の優位点と課題
　7 まとめ
第2節 ラインアンドスペース対応DSA技術
　　東　司
　1 はじめに
　2 物理ガイドプロセスと化学ガイドプロセス
　3 ハーフピッチ15 nmラインアンドスペース対応DSA技術
　4 ハーフピッチ10 nm以細ラインアンドスペース対応DSA技術
　5 まとめ
第3節 ホール対応DSA技術
　　清野　由里子
　1 はじめに
　2 DSAホールシュリンクプロセス技術
　3 DSA適用ビアチェーンの電気的歩留まり検証
　4 まとめ

第Ⅲ編　レジスト材料技術
第1章 レジスト材料の開発動向
　　上野　巧
　1 はじめに
　2 リソグラフィ・レジストの転換点
　3 露光波長の短波長化とレジストの光吸収
　4 現像液の変遷
　5 レジスト感光機構の変遷およびコントラスト向上
　6 解像限界と分子サイズの考察
　7 まとめ
第2章 化学増幅型レジスト材料技術
第1節 DUVリソグラフィー用対応フォトレジスト材料技
　　下畠　孝二
　1 はじめに
　2 ポジ型化学増幅レジスト－KrFエキシマレーザー用－
　3 ポジ型化学増幅レジスト－ArFエキシマレーザー用－
　4 ArFレジスト ネガ画像形成方式
　5 おわりに
第2節 EUVリソグラフィ用フォトレジスト技術
　　成岡　岳彦，中川　泰志
　1 はじめに
　2 有機ポリマーをマトリクスにした化学増幅型EUVレジスト
　3 低分子化合物を用いた化学増幅型EUVレジスト
　4 EUVレジストの高感度化に向けた新規プロセス
　5 まとめ
第3節 金属含有型レジスト材料技術
　　鳥海　実
　1 初期の金属含有型レジスト
　2 EUVリソグラフィー用金属含有型レジストの特徴
　3 Cornell University、The University of Queensland、(株)EUVL基盤開発センターの金属含有型レジスト
　4 金属含有型レジストとして評価された化合物
　5 Oregon State University、Inpria、Interuniversity Microelectronics Centreの金属含有型レジスト
　6 その他の金属含有型レジスト
　7 金属含有型レジストの高機能化

第Ⅳ編　マルチパターニング技術
第1章 マルチパターニングの技術動向
　　八重樫　英民
　1 マルチパターニングの分類と特徴
　2 マルチパターニングの解像実証結果と技術課題
　3 マルチパターニングの応用技術
　4 マルチパターニングに関連した周辺技術
　5 まとめ
第2章 マルチパターンニングにおけるデポジション技術とエッチング技術
　　野尻　一男
　1 マルチパターニングにおけるデポジション技術とエッチング技術の役割
　2 デポジション技術
　3 エッチング技術
　4 おわりに

第Ⅴ編　計測評価技術
第1章 CD-SEM技術
　　杉本　有俊
　1 はじめに
　2 CD-SEM計測の対象と目的
　3 CD-SEM計測技術の概要
　4 Line Edge Roughness（LER）の計測
　5 Design Based　Meteorology
　6 CD-SEMの高速化が拓く新しいアプリケーション
第2章 スキャトロメトリ（光波散乱計測）
　　白﨑　博公
　1 はじめに
　2 半導体リソグラフィ技術
　3 反射散乱光を利用した測定技術
　4 スキャトロメトリ
　5 最適化手法
　6 スキャトロメトリ解析の実例
　7 あとがき
第3章 走査型プローブ顕微鏡技術
　　大田　昌弘
　1 はじめに
　2 AFMの原理
　3 各種SPM手法
　4 SPMの特長
　5 SPMの応用例
　6 まとめ
第4章 X線小角散乱法を用いた寸法および形状計測技術
　　伊藤　義泰
　1 はじめに
　2 X線散乱
　3 X線小角散乱の測定法
　4 測定例
　5 まとめと今後の展望

第Ⅵ編　その他応用技術
第1章 MEMS技術の微細パターニングへの応用
　　江刺　正喜、戸津　健太郎、鈴木　裕輝夫、小島　明、池上　尚克、宮口　裕、越田　信義
　1 はじめに
　2 EUV光源用フィルタ
　3 アクティブマトリックスnc-Si電子源による超並列電子ビーム描画
　4 おわりに
第2章 最近の超先端エッチング技術の概要―原子層レベル超低損傷高精度エッチング―
　　寒川　誠二
　1 はじめに
　2 中性粒子ビーム生成装置
　3 22nm世代以降の縦型フィントランジスタへの応用
　4 無欠陥ナノ構造の作製とその特性
　5 原子層レベル表面化学反応の制御
　6 まとめ

※ 2017年2月現在。変更の可能性があります