レポート概要

■本誌の特徴等

1． 調査目的
　「フォトマスク」に関する出願件数、出願人（共同出願人）、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、
　(1) 「フォトマスク」についてどのような技術があるか、
　(2) 各企業の技術開発動向はどのように推移しているか、
　(3) 国内出願日基準「2009年1月～2021年5月」における関連技術の出現・消失状況はどのようになっているか、
　(4) 各企業間の連携状況はどのようになっているか、
　(5) 2017年1月～2021年5月における企業および技術の注目すべき動向は何か、
　(6) この分野に強い弁理士（特許事務所）と企業の利用状況はどうか
等を明確にして、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2.特許情報の収集方法
　本調査報告書は、「フォトマスク」の国内出願日：2009年1月～2021年5月に出願された公開特許について、検索、収集した。
報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」（インパテック（株）製）を使用した。
特許情報公報の総数は6,212件である。

3． 報告書の構成
　本報告書は、I.～II.の2つの部分から構成されている。

I．パテントマップ編
　A． 2017年1月～2021年5月の出願における新規出現した出願人、技術分類による動向分析
　B． 全般分析
　C． 上位20出願人比較分析
　D． 上位5出願人個別分析
　E． 上位5出願人比較分析（1位HOYA、2位凸版印刷、3位ニコン、4位信越化学工業、5位エーエスエムエルホールディング）
　F． 上位20特許分類分析
　G． 特定特許分類分析
　　G-1． 特定特許分類分析（1）
　　　・FI分類（深さ18）
　　　・Fターム分類（深さ10）
　　G-2． 特定特許分類分析（2）
　　　・Fターム分類
　H． キーワード分析　※キーワードは発明の名称、要約、請求の範囲から抽出した。
　I． 弁理士（特許事務所）の動向分析

II．パテントチャート編

4. 本報告書の特徴
●　「フォトマスク」に関する国内出願日：2009年1月～2021年5月の出願、
　　さらには2017年1月～2021年5月の技術動向が分かりやすく把握できる。
●　本技術分野に関連する弁理士（特許事務所）の動静が読み取れる。
●　パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい。

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