目次
◇第1章 フレキシブルディスプレイの開発動向◇
第1節 国内外の動きから見る有機ELの市場、技術動向と業界展望 ～フレキシブル化、フォルダブルの動向～
1．有機ELディスプレイパネル産業の全体動向
1.1 市場動向
1.2 製品動向
2．小型・中型フレキシブルディスプレイの製品開発の動向
3．自動車や航空機向けの有期ELパネルの製品開発の動向
3.1 自動車向けの開発動向
3.2 航空機向けの開発動向
第2節 フレキシブルディスプレイの用途展開と超柔軟構造の液晶ディスプレイの開発
1．フレキシブルディスプレイの応用展開
2．フレキシブル液晶方式の優位性
3．フレキシブル液晶の原理と課題
4．接合高分子壁スペーサの創出
5．プラスチック基板を用いたデバイス作製
5.1 プラスチック基板の選択
5.2 フレキシブル液晶の作製工程
6．フレキシブルバックライトの開発
7．極薄基板を用いた超柔軟化技術
8．今後の展望
第3節 ポリマーアレイ導波路格子を用いたフレキシブル透明ディスプレイの開発
1．ディスプレイの変遷
2．フォトンマトリックス方式のディスプレイ
3．粒子合成
4．低屈折率および高屈折率ポリマー
5．希土類粒子膜のパターニング
6．アレイ導波路格子
◇第2章 フレキシブルディスプレイへ向けた透明樹脂、フィルム、屈曲性材料の開発動向 ◇
第1節 光学透明樹脂の屈折率制御と高透明化
1．屈折率制御
1.1 屈折率と分子構造
1.2 透明ポリマーの屈折率予測システム
1.3 屈折率の制御
2．高透明化
2.1 高透明化のための高次構造制御
2.2 高透明化のための分子設計
2.3 光学ポリマーの透明性予測システム
第2節 透明耐熱ポリマレイミド樹脂のフィルム材料設計と応用
1．種々のマレイミド共重合体の合成と特性評価
2．マレイミド共重合体を用いる熱硬化系
3．SQ/マレイミド共重合体ハイブリッド材料の設計
第3節 大小異種コロイド粒子の自己集積現象を利用した無機ナノフィラーとの複合化技術による透明アクリル樹脂の光学特性の改質
1．異種微粒子集積法による無機ナノ粒子とポリマーの複合化
2．分散維持型微粒子集積法と静電吸着法の比較
3．分散維持型微粒子集積法により調製された無機／アクリル樹脂系複合材料の光学特性
3.1 光透過性
3.2 屈折率
4．分散維持型微粒子集積法による厚さ方向に屈折率分布をもたせた無機／アクリル樹脂系透明複合材料膜の調製
第4節 フレキシブルディスプレイ基板向け透明ポリイミドモノマーの特性と応用展開
1．ポリイミドの種類と透明性
1.1 ポリイミドフィルムの化学構造と透明性
1.1.1 全芳香族ポリイミド
1.1.2 半芳香族ポリイミド
1.1.3 全脂肪族ポリイミド
1.1.4 フッ素系ポリイミド
1.2 フレキシブルディスプレイ用のTFTに用いられている半導体の種類とポリイミドに要求される特性
1.3 ポリイミドの耐熱性に関して
1.4 ポリイミドのCTEの低減に関して
1.5 フレキシブルディスプレイ基板向け透明ポリイミドモノマー
1.5.1 ポリアミック酸ワニス経由
1.5.2 ポリイミドワニス経由
1.5.3 ベイク時の温度と酸素濃度
1.5.4 製膜時の環境
1.5.5 CpODAと各種ジアミンとの反応
1.5.6 光学特性および熱物性
1.5.7 機械強度
1.5.8 剥離強度
1.5.9 レーザー剥離（LLO）
第5節 高耐熱性ポリイミドフィルムの特性とディスプレイ基板への応用展開
1．ポリイミド
2．XENOMAXの特性
2.1 CTE：線膨張係数
2.2 粘弾性特性
2.3 機械特性、熱収縮率、電気特性
2.4 耐薬品性
2.5 難燃性
3．XENOMAXのフレキシブルデバイスへの応用
3.1 フレキシブル・ディスプレイ用基板への要求特性
3.2 バックパネル用フィルム基板の要求特性を満たすための技術課題
3.3 フレキシブル・ディスプレイ用バックパネルの製造における課題
3.4 コーティング?デボンディング法
3.5 ボンディング?デボンディング法
第6節 可撓性を有する耐熱性透明フィルムの構造、特性とその応用展開
1．耐熱性と可撓性・透明性を両立するために
2．ハイブリッドフィルムの特性
2.1 ハイブリッド材料の外観と光学特性
2.2 ハイブリッド材料の機械特性
2.3 ハイブリッド材料の熱特性
3．想定される応用展開
第7節 ディスプレイ用光学フィルムの高機能化動向と技術トレンド
1．LCD用光学フィルムの現状と高機能化・技術トレンド
1.1 LCD用光学フィルムの構成
1.2 LCD用光学フィルムの市場規模
1.3 LCD用光学フィルムの高機能化・技術トレンド
1.3.1 ワイヤーグリッド偏光板
1.3.2 モスアイ型反射防止フィルム
1.3.3 指紋除去コーティング
2．有機EL用光学フィルムの現状と高機能化・技術トレンド
2.1 OLED用光学フィルムの構成
2.2 OLED用光学フィルムの市場規模
3．車載ディスプレイにおける光学フィルムのトレンド
第8節 微細構造を用いた光学フィルムによる反射防止機能制御
1．微細構造による反射防止機能発生
2．ARSの設計と反射防止機能の効果
3．ARSを用いたフィルムの作製方法
4．ディスプレイにおける応用と構成
第9節 有機-無機ハイブリッドハードコート材の材料設計とフレキシブル性の付与
1．ハードコート材の種類と特徴
2．UV硬化型ハイブリッドハードコート材の設計
2.1 開発の基本方針
2.2 UV硬化型ハイブリッドハードコート材の設計
3．UV硬化型アクリル系ハイブリッドハードコート材の調製
3.1 UV硬化型アクリル系ハイブリッドハードコート材の構成成分
3.2 UV硬化型アクリル系ハイブリッドハードコート材の調製法
4．ハイブリッドハードコート材へのフレキシブル性の付与
4.1 柔軟性(耐衝撃性)の付与方法
4.2 柔軟性(耐衝撃性)の評価方法
第10節 機能性フィルムの湾曲に伴う表面ひずみ定量解析手法の開発と屈曲耐久試験機への応用
1．湾曲ひずみ解析手法
2．表面ラベルグレーティング法
2.1 表面ラベルグレーティング法による光応答性架橋液晶高分子フィルムの湾曲解析
2.2 表面ラベルグレーティング法のシリコーンエラストマーへの展開
2.3 表面力学解析装置による表面ラベルグレーティング法の測定精度向上
2.4 表面ラベルグレーティング法の今後の展開
3．画像解析技術の開発と屈曲耐久試験機への応用
◇第3章 フレキシブルディスプレイへ向けた封止、バリア技術◇
第1節 フレキシブル有機EL対応の新規封止技術の開発
1.有機EL封止技術の基礎
1.1 ガラス基板を用いた有機ELデバイスにおける封止技術
1.2 フレキシブル有機ELにおける封止技術
2.フレキシブル封止技術の評価法
2.1 有機ELデバイスでの評価
2.2 Ca腐食法による評価
2.3 WVTR測定装置による評価
2.4 屈曲試験
3. ダムフィル方式を用いたフレキシブル有機ELデバイスの開発
4．TFE方式を用いたフレキシブル有機ELデバイスの開発
5．ラミネート方式を用いたフレキシブル有機ELデバイスの開発
第2節 フレキシブル有機EL用封止材料の要求特性と封止技術
1．有機EL用封止材料のフレキシブル化への対応
1.1 ダム＆フィル封止
1.2 液状材料を用いた全面封止
1.3 感圧接着剤（PSA）を用いた封止
1.4 薄膜封止
第3節 粘土膜を用いたバリアフィルムの開発
1．粘土を主成分とする耐熱フィルム
2．耐熱ガスバリアフィルムの設計指針-ナノコンポジット化と多積層化
3．粘土を主成分とする耐熱フィルムへの柔軟性付与・透明性向上・ガスバリア性付与
4．粘土を主成分とするフィルム
5．高温で透明性を維持するフィルム
6．水蒸気バリア膜
7．国際標準化
第4節 光照射と溶液塗布法を用いたガスバリア膜の低温形成技術 ～PETフィルムへの高ガスバリア性付与～
1．ガスバリア膜形成プロセス
2．ガスバリア膜の可視紫外及び赤外吸収スペクトル
3．PETフィルム上に形成したガスバリア膜の透過率及び反射率スペクトル
4．膜の断面構造
5．ガスバリア特性
第5節 水蒸気バリア性の高精度、高速測定技術
1．水蒸気バリア性測定の一般的原理
2．検出器
2.1 等圧法
2.2 差圧法
3．外部からの水分侵入の防止
4．装置内壁の吸着水分子の影響
5．装置校正の方法
6．差圧法における試料への応力の影響の防止
7．等圧法装置の例
8．差圧法装置の例
◇第4章 フレキシブル透明導電膜の開発動向と作製、材料技術◇
第1節 ITO、PEDOT系塗布型透明導電膜の特性、成膜プロセスとデバイスへの応用
1．塗布型透明導電材料開発の歴史と背景
2．ITOを用いた塗布型導電膜
2.1 金属酸化物を用いた塗布型導電膜
2.2 ITOを用いた塗布型導電膜の特徴
2.3 塗布型 ITO膜の特性とデバイスへの応用展開
3．有機導電ポリマーを用いた塗布型透明導電膜
3.1 有機導電ポリマー開発の背景
3.2 PEDOT/PSSの特徴
3.3 PEDOT/PSSを用いた塗布型透明導電膜の特徴
3.3 PEDOT/PSSを用いた塗布型透明導電膜の応用展開
3.3.1 タッチパネル用透明導電膜への適用
3.3.2 PEDOT/PSS塗膜による電極形成プロセス
3.3.3 PEDOT/PSS塗膜電極の特性
3.3.4 実用化に向けた検討事例
4．塗布型透明導電膜の特性まとめ
4.1 各種塗布型透明導電膜の特性
4.2 塗布型透明導電膜のデバイスへの展開
第2節 マイクロサイズメッシュ構造によるITOのフレキシブル化技術
1．序論
1.1 フレキシブル透明電極
1.2 ITOを用いたフレキシブル透明電極
1.3 メッシュパターンITO透明電極
2．作製および評価手法
2.1 デバイスデザインおよび作製手法
2.2 評価手法
3．メッシュパターンITO透明電極の特性
3.1 有限要素法を用いた解析
3.2 メッシュパターンITO透明電極のフレキシブル性
3.3 メッシュパターンITO透明電極を用いた液体有機EL素子
第3節 グラビアオフセット印刷法により形成した微細銀グリッド配線に導電性ポリマーを積層したフレキシブル透明電極
1．ナノメタルインク
1.1 導電膜形成に用いる金属ナノ粒子
2．フレキシブル透明電極
2.1 フレキシブル透明電極の部材候補
2.2 グラビアオフセット印刷法によるフレキシブル透明電極の形成
3．Agグリッド配線透明電極の特性評価
3.1 Agグリッド配線よりなる透明電極の導電性および可視光透過性
3.2 Agグリッド配線上の全面に導電性ポリマーを積層した透明電極
3.3 Agグリッド配線透明電極の折り曲げ耐久性
第4節 有機前駆体ペイント還元法による多結晶銀ナノワイヤー透明導電膜の合成
1．従来の銀ナノワイヤー合成・銀ナノワイヤー透明導電膜合成法
2．有機前駆体ペイント還元法による銀ナノワイヤー透明導電膜
3．有機前駆体ペイント還元法による銀ナノワイヤー透明導電膜の合成プロセス
4．有機前駆体ペイント還元法による銀ナノワイヤー透明導電膜の実用化における利点
第5節 高分子酸を用いたカーボンナノチューブ透明導電膜の作製技術
1．CNT透明導電膜の作製
2．CNT-CuI複合膜の構築
3．高分子酸を用いたCNT透明導電膜
3.1 CNT-高分子酸複合膜
3.2 CNT-高分子酸複合膜の性能
3.3 CNT-高分子酸複合膜の耐久性および機械強度
◇第5章 フレキシブルディスプレイへ向けたプリンテッドエレクトロニクス技術◇
第1節 グラビアオフセット印刷技術とフレキシブル基板へのパターン形成
1．プリンテッドエレクトロニクスの需要動向
2．グラビアオフセット印刷のメカニズム
2.1 ドクタリング
2.2 受理
2.3 転写
2.4 乾燥/印刷後のメンテナンス
3．グラビアオフセット印刷技術の特徴と課題
3.1 高精細、高精度
3.2 wet on wet印刷
4．グラビアオフセット印刷 フレキシブル基板への対応
第2節 スクリーンオフセット印刷技術と微細配線形成
1．スクリーン印刷工法
1.1 スクリーン印刷工法のメカニズムと特徴
2．スクリーンオフセット印刷工法
2.1 スクリーン印刷工法の原理
2.1.1 スクリーン版からブランケットへの印刷
2.1.2 ブランケットから基材へのオフセット
3．スクリーンパッド印刷工法
3.1 三次元への印刷検討
3.2 スクリーンパッド印刷工法の原理
3.3 スクリーンパッド印刷工法での実例
第3節 ソフトブランケットを用いたオフセット印刷技術
1．3次元プリンテッドエレクトロニクス技術
2．ソフトブランケットを用いたオフセット印刷技術
2.1 ソフトブランケットグラビアオフセット(SBG)印刷技術
2.1.1 SBG印刷技術の特徴
2.1.2 SBG印刷の例
2.2 ソフトブランケットリバースオフセット(SBG)印刷
2.2.1 SBR印刷技術の特徴
2.2.2 SBR印刷の例
第4節 インクジェット技術のディスプレイへの応用における課題と対応
1．パターニングにおける主な課題と対応策
1.1 塗布量の均一化
1.2 着弾位置ずれ補正
1.3 成膜の均一化
2．プリントヘッドへの主な課題と対応策
2.1 機能性液体との接液性と物性範囲
2.2 吐出不良の原因と対応
◇第6章 フレキシブルディスプレイへ向けた成膜技術と膜質制御◇
第1節 樹脂基板への光学薄膜の成膜技術と密着性向上
1．光学薄膜の密着性
1.1 膜と基板の界面
1.2 基板表面の水
1.3 密着性の向上
1.3.1 物理的な手法
1.3.2 化学的な手法
1.4 密着性の向上における問題点
2．成膜手法の複合化
第2節 大気圧プラズマCVDによるシリコン薄膜の低温・高速形成技術
1．大気圧プラズマを用いた薄膜作製プロセス
2．大気圧プラズマ発生用電極
3．大気圧VHFプラズマ中でのSi成長プロセス
4．薄膜トランジスタの特性
第3節 プラズマALDによる樹脂材料への低温成膜技術
1．Atomic Layer Deposition (ALD)
2．各種装置構成
2.1 ラテラルフロー方式
2.2 シャワーヘッド方式
2.3 ダイレクトプラズマ方式
2.4 リモートプラズマ方式
2.5 バッチ方式
2.6 Spatial ALD
3．ALDの各種特性
3.1 サンプル作製
3.1 膜厚制御性
3.2 ガスバリア性
3.3 3D形状および微細パターンへの付きまわり
3.4 XPS分析結果
3.5 FT-IR分析結果
3.6 光学特性
4．応用分野
第4節 ディスプレイ向け精密塗布技術と塗布面の品質安定対策
1．塗布面の品質安定化を左右する要素
1.1 塗工幅方向（TD）均一化
1.2 塗工方向（MD）均一化
1.3 塗工始終端の安定化
1.4 塗工欠陥（ムラ・気泡等）の除去
1.5 塗工速度・安定性の確保
2．テーブルコータの特長･基本仕様
2.1 装置の特長
2.2 装置の基本仕様
3．テーブルコータの概要
3.1 装置の基本構成
3.1.1 スロットダイ
3.1.2 ギャップセンサー
3.1.3 基板吸着機構
3.1.4 ダイ走行・昇降機構
3.1.5 ダイ先端洗浄機構
3.1.6 塗工液供給ポンプ・タンク
3.1.7 自動ゼロセット機構
3.1.8 制御システム・制御ソフト
3.2 装置の動作
3.2.1 基板セット
3.2.2 基板厚み変動測定
3.2.3 塗工
4．スロットダイの塗工方式分類と塗工理論
4.1 コーティング理論と塗工条件の決定
4.2 塗工方式の分類比較
5．テーブルコータ?（FLOLIA）
5.1 FLOLIAとは
5.2 FLOLIAの特長、仕様
5.3 FLOLIAの走行系革新
6．FLOLIA3000 COATER SYSTEM
6.1 FLOLIA3000 COATER SYSTEMとは
6.2 FLOLIA3000 COATER SYSTEMの特長
◇第7章 フレキシブル薄膜半導体の材料、作製技術◇
第1節 次世代ディスプレイ向け酸化物半導体材料の開発
1．高移動度酸化物半導体の期待と課題
2．酸化物半導体薄膜中の欠陥評価
2.1 PITS法の原理
2.2 PITS法を用いたa-IGZO薄膜中の欠陥評価
2.2.1 DLTS法を用いたZnO薄膜中におけるトラップ準位
2.2.2 a-IGZO薄膜中の欠陥準位の起源
2.2.3 a-IGZO薄膜の水素誘起欠陥
2.3 a-IGZO薄膜中のトラップ準位とTFT信頼性との相関について
2.3.1 デバイスシミュレーションによる欠陥準位の解析
2.3.2 PITS法による欠陥評価とTFT特性との相関
3．In-Ga-Zn-Sn-O系高移動度酸化物半導体の開発
3.1 a-IGZTO薄膜へのSn添加によるZn脱離の抑制効果
3.2 a-IGZTO薄膜のPITS法による欠陥準位評価
3.3 a-IGZTO-TFT特性
3.3.1 静特性
3.3.2 a-IGZTO-TFTの信頼性試験評価
第2節 レアメタルフリー酸化物半導体Ga-Sn-O の作製技術とフレキシブルディスプレイへの応用
1．GTO-TFT
2．GTO TFT の低温形成
3．熱電素子
4．メモリスタ
5．ニューロモーフィックシステム
第3節 酸化物薄膜トランジスタの信頼性劣化現象と高性能化技術
1．AOS-TFTの信頼性劣化現象
1.1 定電圧ストレスによる劣化現象
1.2 AC電圧ストレスによる劣化現象
1.3 ACストレス切り替わり
1.4 発熱による劣化現象
2．劣化抑制手法
2.1 フッ化窒化シリコン膜による高信頼性化
2.2 シロキサン保護膜による信頼性改善
2.3 自己発熱抑制手法
第4節 フレキシブル有機半導体の屈曲性の改善と評価手法
1．屈曲性の改善
1.1 有機薄膜の限界割れ発生歪
1.2 限界割れ発生歪（複層）
1.3 有機薄膜（圧縮歪による剥離）
1.4 屈曲時の剥離損傷
2．評価手法
2.1 引張時の割れの評価
2.2 屈曲（圧縮）性の評価
2.3 材料物性
2.4 評価が必要な事例
◇第8章 量子ドットの合成、カドミウムフリー化と応用展開◇
第1節 量子ドット蛍光体の光学特性とデバイスへの応用展開
1．量子ドットとは
2．コロイダルQDとは
3．QDのデバイス応用
4．QDディスプレイ
4.1 QDを用いたディスプレイ方式
4.2 液晶ディスプレイ向けQDバックライト
4.3 CC方式によるディスプレイへの応用
4.4 電流注入による自発光ディスプレイ
5．課題とまとめ
第2節 カドミウムフリー量子ドットの合成と発光特性
1．RoHS指令におけるカドミウムの規制
2．カドミウムフリー量子ドット
3．InP量子ドット
4．CuInS2量子ドット
5．非Cd系II-VI族半導体量子ドット
第3節 カドミウムフリー量子ドットの開発と展望
1．半導体の種類別に見る量子ドットの特徴
1.1 カドミウムカルコゲナイド量子ドット
1.2 リン化インジウム量子ドット
1.3 I-III-VI族3元系量子ドット
2．硫化銀インジウムコア／シェル量子ドットからのバンド端発光
2.1 硫化銀インジウムコアへのIII-VI族半導体シェル被覆によるバンド端発光の発生
2.2 コア／シェル量子ドットの構造と光学特性の関係
2.3 合成手法の改良とバンド端発光量子収率の向上
第4節 完全無機ペロブスカイトナノ結晶蛍光体の特性、合成法および耐久性の改善
1．完全無機ペロブスカイトナノ結晶蛍光体の特性、合成法および耐久性の問題
2．分散液に対する耐久性の改善
3．固体試料に対する耐久性の改善
第5節 アニオン・配位子交換によるペロブスカイト量子ドットLEDの高性能化
1．配位子交換によるペロブスカイト量子ドットLEDの高性能化
2．ハロゲンアニオン交換によるペロブスカイト量子ドットLEDの高性能化
第6節 量子ドットとマイクロLED
1．量子ドットとは
2．弊社においての量子ドットと関連商品
3．マイクロLED
第7節 量子ドット色変換層用インクジェットインクの開発
1．QDCC層について
1.1 QDCC層搭載ディスプレイ
1.2 QDCC層の利点
2.3 インクジェットによるQDCC層製造プロセスの利点
2．当社で開発したQDCC層用インクジェットインク
2.1 QD材料
2.2 インクのタイプ
2.3 QDCC層の光学物性の測定
2.4 熱硬化型インク（ソルベント含有）
2.5 UV硬化型インク（ソルベント非含有）
2.6 インクジェット塗布で製造したQDCC層
第8節 塗布プロセスによる量子ドット発光ダイオードの作製と発光機構
1．塗布型QLEDの作製
1.1 QLEDの構造
1.2 QLEDの作製手順
1.3 QLEDの評価
2．QLEDの特性
3．QLEDの発光機構
◇第9章 マイクロLEDの集積化技術と実用化への課題◇
第1節 マイクロLEDディスプレイの製造技術、開発状況と量産化への課題
1．マイクロLEDとは
2．マイクロLED開発の背景
3．マイクロLED開発の情報
3.1 報道
3.2 技術情報
4．マイクロLEDディスプレイの製法検討
4.1 既存製法の応用
4.2 既存製法の応用における課題
4.3 新規製法
4.4 QLEDとの違い
5．マイクロLEDディスプレイの封止技術
6．ディスプレイ分野以外へのマイクロLEDの応用
6.1 光伝送用途
6.2 光標識用途
6.3 医療用途
6.4 その他
7．マイクロLEDディスプレイ実用化への課題
8．汎用のディスプレイ光源およびディスプレイ
8.1 LED
8.2 OLED
8.3 LCD
8.4 汎用ディスプレイ
第2節 マイクロLEDの現状と将来の可能性 ～ARと私たちの未来の生活～
1．マイクロLEDトレンド概観
2．そもそもマイクロLEDとは
3．マイクロLEDとAugment Reality
4．AR市場の予測
第3節 GaN指向性マイクロLEDの開発動向
1．従来の平面型GaNマイクロLEDの課題
1.1 内部量子効率低下問題
1.2 光取出し効率低下問題
1.3 配光制御の問題
2．指向性マイクロLED
2.1 動作原理およびリッジ型GaAs/InGaAs赤外LEDによる実証
2.2 FDTD法によるGaN指向性マイクロLEDの構造設計および発光効率計算
3．指向性GaNマイクロLEDの開発状況
3.1 選択成長方式
3.2 トップダウン方式
第4節 自己組織化実装とマイクロLEDディスプレイへの応用
1．自己組織化実装
2．自己組織化実装の位置合わせ精度に影響する因子
3．自己組織化実装のしたチップのインターコネクション
3.1 フェイスアップ接続
3.2 フェイスダウン接続
4．自己組織化実装のマイクロLEDディスプレイへの応用
第5節 マイクロLEDにおける色度、ユニフォミティ検査技術
1．ディスプレイの画質評価
1.1 色度
1.2 色域の拡大
1.3 ユニフォミティ
2．色度・ユニフォミティ検査測定計測器
2.1 マイクロLEDの生産プロセス
2.2 マイクロLEDのチップ個体差
2.3 混色による影響の検査
2.4 スペクトルによるμmレベルのRGBピクセル検査
◇第10章 3D、空中ディスプレイの表示技術と応用展開◇
第1節 3D表示技術(DFD、アーク3D)の最新動向と奥行き知覚特性
1．基本的なDFD表示方式の原理
2．透明スクリーンを用いた大画面・遠距離観察用Edge-based DFD表示方式
2.1 Edge-based DFD表示方式の原理
2.2 遠距離観察時における知覚される奥行き測定のための実験系
2.3 観察距離10mでのEdge-based DFD表示の奥行き知覚特性
3．DFD表示方式における運動視差による単眼奥行き知覚特性
3.1 運動視差による単眼奥行き知覚の基本特性
3.2 前後の面間を大幅に拡大した場合の単眼奥行き知覚
4．アーク3D表示方式の原理
4.1 円弧状の線刻からの方向性散乱とアーク3D表示による空中像
4.2 眼の位置に対応して自律的に移動する線刻上の輝点位置とアーク3D像
4.3 アーク3D表示における奥行き知覚特性
4.4 アーク3D表示方式における単眼奥行き知覚
第2節 再帰性反射結像に基づく空中3次元ディスプレイ技術
1. 再帰性反射結像と2面コーナーリフレクタアレイDCRA
2．多視点型立体ディスプレイとDCRAを利用した空中3次元像形成
2.1 多視点型立体ディスプレイによる空中像形成の問題点
2.2 レンチキュラ方式の多視点型立体ディスプレイとDCRAによる3次元空中像表示
2.3 多重投影方式の多視点型立体表示とDCRAによる3次元空中像表示
3. DCRAを用いた体積走査型3次元ディスプレイ
4．ルーフミラーアレイを用いたヘテロジニアス結像光学系に基づく体積走査型3次元ディスプレイ
4.1 ルーフミラーアレイを用いたヘテロジニアス結像
4.2 ヘテロジニアス結像光学系に基づく体積走査型3次元ディスプレイ
第3節 2面コーナーリフレクタアレイを用いた空中像表示とインタラクション応用
1．空中映像が見える仕組みと空中映像表示の実現方法
2．2面コーナーリフレクタアレイ
2.1 2面コーナーリフレクタアレイによる結像の原理
2.2 2面コーナーリフレクタアレイの製造と遮光マスク処理
3．2面コーナーリフレクタアレイの空中タッチディスプレイへの応用
第4節 空中への運動視差立体視CG映像の投影とインタラクション
1．概要と関連研究
2．手法
2.1 機器構成
2.2 空中への映像表示
2.3 運動視差立体視CG
2.4 インタラクション
3．実験
第5節 書き換え型3Dマルチカラーホログラフィックディスプレイの開発
1．背景
2．書き換え型ホログラフィックディスプレイ用材料としての要件
3．有機フォトクロミック材料
3.1 有機フォトクロミック材料を用いた書き換え型ホログラフィックディスプレイ
3.2 有機フォトクロミック材料を用いた書き換え型マルチカラーホログラフィックディスプレイ
4．有機フォトリフラクティブ材料
4.1 有機フォトリフラクティブポリマーを用いたホログラフィックディスプレイ
4.2 フレキシブルデバイス
5．まとめと今後の展望
第6節 ライトフィールドディスプレイの原理、最新動向とその応用展開
1．ライトフィールドとは
2．ライトフィールドの表現
2.1 Plenoptic Function
2.2 ライトフィールドの座標系
3．インテグラルフォトグラフィ
4．ライトフィールドディスプレイ
4.1 光線標本化方式
4.2 積層型方式
4.3 二方式の本質的な違い
4.4 光線標本化方式の光学設計
5．ライトフィールドディスプレイの研究動向
6．まとめ
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